Toepassing op Passat Fuel Common Rail Druksensor 06E906051K

1. Een methode voor het vormen van een druksensor, bestaande uit:

Het verstrekken van een halfgeleidersubstraat, waarbij een eerste interlayer diëlektrische laag, een eerste tussenlagen diëlektrische laag en een tweede interlayer diëlektrische laag worden gevormd op het halfgeleidersubstraat.

Een onderste elektrodeplaat in de eerste diëlektrische laag van de tussenlagen, een eerste onderlinge elektrode op dezelfde laag als de onderste elektrodeplaat en uit elkaar.

Lagen aansluiten;

Het vormen van een offerlaag boven de onderste polaire plaat;

Het vormen van een bovenste elektrodeplaat op de eerste tussenlagen diëlektrische laag, de eerste interconnectielaag en de offerlaag;

Na het vormen van de offerlaag en voordat u de bovenste plaat vormt, in de eerste interconnectielaag

Het vormen van een verbindingsgroef en het vullen van de verbindingsgroef met de bovenste plaat om elektrisch verbinding te maken met de eerste interconnectielaag; Of,

Na het vormen van de bovenste elektrodeplaat, worden verbindingsgroeven gevormd in de bovenste elektrodeplaat en de eerste interconnectielaag, die

Het vormen van een geleidende laag die de bovenste elektrodeplaat en de eerste interconnectielaag in de verbindingsgroef verbindt;

Na het elektrisch verbinden van de bovenste plaat en de eerste interconnectielaag, het verwijderen van de offerlaag om een ​​holte te vormen.

2. De methode voor het vormen van een druksensor volgens claim 1, waarbij in de eerste laag

De methode voor het vormen van de opofferingslaag op de diëlektrische laag van de tussenlaag omvat de volgende stappen:

Het afzetten van een opofferingsmateriaallaag op de eerste diëlektrische laag van de tussenlaag;

Patratie van de offermateriaallaag om een ​​offerlaag te vormen.

3. De methode voor het vormen van de druksensor volgens claim 2, waarbij fotolithografie en gravure worden gebruikt.

De offer materiaallaag is gevormd door etsenproces.

4. De methode voor het vormen van een druksensor volgens claim 3, waarbij de offerlaag

Het materiaal is amorfe koolstof of germanium.

5. De methode voor het vormen van een druksensor volgens claim 4, waarbij de offerlaag

Het materiaal is amorfe koolstof;

Etsen gassen die worden gebruikt bij het etsen van de laag van het offer materiaal omvatten O2, CO, N2 en AR;

De parameters in het proces van het etsen van de offer materiaallaag zijn: het stroombereik van O2 is 18 SCCM ~ 22 SCCM en de stroomsnelheid van CO is 10%.

De stroomsnelheid varieert van 90 SCCM tot 110 SCCM, de stroomsnelheid van N2 varieert van 90 SCCM tot 110 SCCM en de stroomsnelheid van AR.

Het bereik is 90 SCCM ~ 110 SCCM, het drukbereik is 90 mTOR ~ 110 mTOR en het biasvermogen is

540W ～ 660W。