Motordruksensor 2CP3-68 1946725 voor Carter graafmachine

Een werkwijze voor het voorbereiden van een druksensor, gekenmerkt door het omvatten van de volgende stappen:

S1, het verschaffen van een wafel met een achteroppervlak en een vooroppervlak;Het vormen van een piëzoresistieve strook en een zwaar gedoteerd contactgebied op het vooroppervlak van de wafer;Het vormen van een drukdiepe holte door het achteroppervlak van de wafel te etsen;

S2, het hechten van een steunvel op de achterkant van de wafel;

S3, het vervaardigen van loden gaten en metaaldraden aan de voorkant van de wafer, en het verbinden van piëzoresistieve strips om een ​​Wheatstone-brug te vormen;

S4, het afzetten en vormen van een passivatielaag op het vooroppervlak van de wafel, en het openen van een deel van de passivatielaag om een ​​metalen kussengebied te vormen.2. De vervaardigingswerkwijze van de druksensor volgens conclusie 1, waarbij SI specifiek de volgende stappen omvat: S11: voorzien van een wafel met een achteroppervlak en een vooroppervlak, en het definiëren van de dikte van een drukgevoelige film op de wafel;S12: ionenimplantatie wordt gebruikt op het vooroppervlak van de wafer, piëzoresistieve strips worden vervaardigd door een diffusieproces bij hoge temperatuur en contactgebieden zijn zwaar gedoteerd;S13: het afzetten en vormen van een beschermende laag op het vooroppervlak van de wafel;S14: etsen en vormen van een drukdiepe holte op de achterkant van de wafer om een ​​drukgevoelige film te vormen.3. Werkwijze voor het vervaardigen van de druksensor volgens conclusie 1, waarbij de wafel SOI is.

In 1962 hebben Tufte et al.vervaardigde voor het eerst een piëzoresistieve druksensor met diffuse siliciumpiëzoresistieve strips en siliciumfilmstructuur, en begon het onderzoek naar piëzoresistieve druksensoren.Eind jaren zestig en begin jaren zeventig bracht de opkomst van drie technologieën, namelijk siliciumanisotrope etstechnologie, ionenimplantatietechnologie en anodische bindingstechnologie, grote veranderingen in de druksensor met zich mee, die een belangrijke rol speelden bij het verbeteren van de prestaties van de druksensor. .Sinds de jaren tachtig, met de verdere ontwikkeling van microbewerkingstechnologie, zoals anisotropisch etsen, lithografie, diffusiedoping, ionenimplantatie, bonding en coating, is de grootte van de druksensor voortdurend verkleind, is de gevoeligheid verbeterd en is de output hoog en de prestaties zijn uitstekend.Tegelijkertijd zorgt de ontwikkeling en toepassing van nieuwe microbewerkingstechnologie ervoor dat de filmdikte van de druksensor nauwkeurig wordt gecontroleerd.